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氧化鋯靶材

氧化鋯靶材


產品介紹

以等離子體為熱源將相應粉末加熱到熔融或半熔融狀態并高速沖擊背管表面形成致密涂層,從而制備出高純度、高致密度ZrOx靶材。


應用領域

光學玻璃AR膜系

Low-E鍍膜玻璃

工具鍍膜和裝飾鍍膜


參數規格

組份(wt%)氧化鋯
純度(%)≥99.9
密度(g/cm3)≥5.4
雜質含量Al≤100 Cr≤50 Ti≤100 Fe≤200
雜質總和≤1000
電阻率(Ω·cm)
≤0.5
背管材質選用304/316L不銹鋼(無磁)
靶材尺寸
按照圖紙要求加工


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